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透射電子顯微鏡(TEM)是使用較為廣泛的電子顯微鏡之一，和掃描電子顯微技術(shù)共同組成了電子顯微學(xué)的“兩大支柱”。TEM的測試原理是利用透過樣品的電子進行成像和結(jié)構(gòu)分析，由于電子的穿透能力較弱，樣品的厚度、導(dǎo)電性、磁性和分散性等特征對測試結(jié)果的好壞起到直接的影響。因此，相比于掃描電鏡樣品的制備，透射電鏡的制樣更加復(fù)雜和精細，對于不同的材料應(yīng)當根據(jù)其特性并采用合適的制樣方法。TEM測試中，為了獲取高質(zhì)量的樣品圖像，制樣很關(guān)鍵。在制樣的過程中，其中載網(wǎng)的選擇也是至關(guān)重要。載網(wǎng)通常是一...

透射電鏡是一種把經(jīng)加速和聚集的電子束透射到非常薄的樣品上，電子與樣品中的原子碰撞而改變方向，從而產(chǎn)生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度等相關(guān)，因此可以形成明暗不同的影像，影像在放大、聚焦后在成像器件上顯示出來的顯微鏡。透射電鏡三維重構(gòu)樣品桿基于樣品端超薄設(shè)計或360°旋轉(zhuǎn)設(shè)計，滿足生命科學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域?qū)θS重構(gòu)表征的不同需求。透射電鏡三維重構(gòu)樣品桿通過一系列不同傾斜角獲得樣品的二維平面成像信息，使用軟件處理后可獲得三維立體成像信息。直接使用3mm銅網(wǎng)樣品進行觀察，支...

透射電鏡液體光學(xué)原位系統(tǒng)采用MEMS微加工工藝在原位樣品臺內(nèi)構(gòu)建液氛納米實驗室，通過樣品臺內(nèi)置的光纖將光作為外場條件搭載其上，通過MEMS芯片和光纖引入的光源對樣品施加光場刺激條件，在進行光學(xué)性質(zhì)測量的同時，結(jié)合使用EDS、EELS、SAED、HRTEM、STEM等多種不同模式，實現(xiàn)從納米甚至原子層面實時、動態(tài)監(jiān)測樣品在液氛環(huán)境中隨光場變化產(chǎn)生的微觀結(jié)構(gòu)演化、反應(yīng)動力學(xué)、相變、元素價態(tài)、化學(xué)變化、微觀應(yīng)力以及表/界面處的原子級結(jié)構(gòu)和成分演化等關(guān)鍵信息。實驗中，樣品被密封在超薄...

透射電子顯微鏡是提供在較高時間分辨率下得到原子級空間分辨率的實驗手段。透射電鏡力電原位系統(tǒng)是在標準外形的透射電鏡樣品桿內(nèi)加裝掃描探針控制單元，通過探針對單個納米結(jié)構(gòu)進行操縱和電學(xué)測量，并可在電學(xué)測量的同時，動態(tài)、高分辨地對樣品的晶體結(jié)構(gòu)、化學(xué)組分、元素價態(tài)進行綜合表征。本公司提供的透射電鏡力電原位系統(tǒng)是通過MEMS芯片在原位樣品臺內(nèi)構(gòu)建力、電復(fù)合多場自動控制及反饋測量系統(tǒng)，結(jié)合EDS、EELS、SAED、HRTEM、STEM等多種不同模式，實現(xiàn)從納米層面實時、動態(tài)監(jiān)測樣品在真...

若TEM樣品桿長期暴露于大氣，空氣中水汽及殘留污染物會附著于樣品桿表面。當樣品桿重新安裝樣品并插入TEM中時，會發(fā)生：1.樣品桿表面(包括桿內(nèi)外表面)殘存水汽緩慢地釋放，大大延長了TEM抽真空時間(由于原位TEM樣品桿內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜，內(nèi)表面積大大增加，其進入TEM后抽真空延時現(xiàn)象尤甚)；2.殘留污染物會污染待觀察樣品，甚至會污染TEM真空腔室及內(nèi)部極靴、探測器等等。高真空存桿儀的極限真空度為10-6mBar(以10桿型號為例，用戶可定制4桿、6桿等不同型號)，為樣品桿提供高真空...